「2009 分析展 in 幕張メッセ国際展示場」に参加します
来る9月2日（水）から9月4日までの3日間、幕張メッセ国際展示場におきまして下記の通り先端技術の粋を集めた分析機器を出展いたします。
日時:
2009年9月2日（水）-9月4日（金） A.M.10:00-P.M.5:00
場所:
幕張メッセ4ホール、4A-601
出展機器
-偏光光学系蛍光X線分析装置 SPECTRO XEPOS
-ハンドヘルド型蛍光X線分析計 SPECTRO x SORT
-ICP発光分光分析装置 SPECTRO ARCOS（パネル展示）
-ICP発光分光分析装置 SPECTRO GENESIS（パネル展示）
新技術説明会
- ICP発光分光分析装置によるワイン中の微量元素分析
2009年9月2日（水）
部屋番号A-3
A.M.11:10-A.M.11:35
-購入前必見！一歩先を行く蛍光X線分析装置
2009年9月4日（金）
部屋番号A-7
P.M.2:50-P.M.3:40